反射式高溫原位光學加熱臺

產品型號：Huace 1400-XY

廠商性質：生產廠家

所在地：北京市

更新日期：2026-07-29

產品簡介：

華測儀器Huace 1400-XY反射式高溫原位光學加熱臺

價格僅供參考，如需獲取更詳盡的產品技術規格書、定制方案或應用案例，歡迎致電我司技術工程師

Huace 1400-XY反射式高溫原位光學加熱臺由華測儀器生產，是為高溫環境下材料光學觀測與性能測試設計的試驗設備，采用耐高溫陶瓷加熱體與高溫阻絲加熱結構，搭配 PID 控溫算法與高準度 S 型熱電偶，確保溫度準確調控與長期穩定。配備 XY 雙向可調載樣臺，位移 ±6mm，精度 0.01mm，可在高溫過程中靈活調整樣品觀測位置，適用于材料科學、冶金、陶瓷、地質及半導體等領域，用于高溫下樣品相變、熱膨脹、燒結、熔化等過程研究。

產品優勢

高溫性能：溫度可達1400℃，升溫速率達150℃/min，支持1℃/min 緩慢升溫

溫控精度：溫度穩定性 ±0.1℃，分辨率 0.1℃，支持多段程序控溫

靈活原位定位：X/Y 軸位移±6mm，可不停爐調整樣品位置

優異光學兼容性：反射光路，上視窗 Φ3mm，窗口材質可定制，載樣臺到視窗距離18mm

樣品適應性廣：樣品高度可達4mm，支持塊狀、粉末、薄膜樣品，腔室可配真空或惰性氣氛

結構緊湊操作穩定：可選配水冷循環系統，無機械振動、無制冷劑