實(shí)時(shí)捕捉高溫相變?nèi)^程，華測儀器全新高溫原位光學(xué)加熱臺來襲

近日，北京華測試驗(yàn)儀器有限公司正式發(fā)布兩款全新高溫原位光學(xué)加熱臺，覆蓋 1400℃、1500℃雙溫域檔位，補(bǔ)齊高溫原位顯微觀測設(shè)備短板，為材料、冶金、陶瓷、半導(dǎo)體等領(lǐng)域科研提供測試設(shè)備支持。

針對傳統(tǒng)熱臺溫區(qū)不足、高溫觀測定位不便、光路適配性差等痛點(diǎn)，新品采用耐高溫陶瓷加熱體搭配 S 型高準(zhǔn)度熱電偶，搭載閉環(huán) PID 控溫系統(tǒng)，溫度穩(wěn)定度 ±0.1℃，升溫速率 1~150℃/min 可調(diào)，支持多段程序升溫、保溫、降溫，準(zhǔn)確復(fù)刻多種工業(yè)高溫?zé)崽幚砬€。設(shè)備內(nèi)置 XY 雙向微調(diào)載物平臺，±6mm 位移區(qū)間、0.01mm 定位準(zhǔn)度，無需降溫開腔即可多點(diǎn)追蹤樣品燒結(jié)、相變、熔融全過程；高透石英光學(xué)窗口適配偏光、拉曼顯微鏡等，兼容真空、惰性氣氛腔體，避免樣品高溫氧化干擾觀測結(jié)果。

1400℃機(jī)型適配常規(guī)功能陶瓷、合金相變研究，1500℃款面向耐火材料、難熔金屬、高溫半導(dǎo)體前沿試驗(yàn)，可實(shí)時(shí)捕捉晶粒生長、液相生成、熱膨脹動(dòng)態(tài)微觀形貌，減少新材料配方迭代周期。適配高校實(shí)驗(yàn)室、科研院所及新材料企業(yè)研發(fā)產(chǎn)線。